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铌靶(Nb target)

点击:1985   深圳摩根靶材www.szmgbc.com
产品描述:铌靶(Nb target),英文名:Niobium target,深圳摩根溅射靶材科技有限公司出品,电话:0755-28112298;规格按用户供应停止消费;锆含量:≥99.5(%)≤杂质含量:≤0.4(%)。 应用于用于化工、医疗、眼镜、电力、电镀、电子、航空、航天、兵工、石油等行业,真空包装/真空中性包装/特别包装外加固包装;附件:条约/报价单/装箱单/剖析检测单/正规发票
铌靶(Nb target)产物引见

深圳摩根靶材消费铌靶(Nb target),英文名:Niobium target,抗腐蚀性、耐高温、抗拉力强和耐磨性强;状况:真空退火、硬态工艺:锻制、轧制、拉制,应用于用于化工、医疗、眼镜、电力、电镀、电子、航空、航天、兵工、石油等行业.

铌靶(Nb target)

靶材的主要性能指数

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纯度是靶材的主要性能目标之一,由于靶材的纯度对薄膜的机能影响很大。不外正在现实运用中,对靶材的纯度要求也不尽雷同。   

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是堆积薄膜的重要污染源。差别用处的靶材对差别杂质含量的要求也不同。

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为了削减靶材固体中的气孔,进步溅射薄膜的机能,一般要求靶材具有较下的密度。靶材的密度不只影响溅射速度,借影响着薄膜的电学和光学机能。靶材密度越下,薄膜的机能越好。另外,进步靶材的密度和强度使靶材能更好天蒙受溅射历程中的热应力。密度也是靶材的要害性能指标之一。   

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一般靶材为多晶构造,晶粒大小可由微米到毫米量级。关于同一种靶材,晶粒微小的靶的溅射速度比晶粒粗大的靶的溅射速度快;而晶粒尺寸相差较小(散布匀称)的靶溅射堆积的薄膜的厚度散布更匀称。

(注:购置前请取在线客服征询)

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